ВИРИС

Программное обеспечение для моделирования технологических процессов полупроводникового производства.

Функциональные характеристики

Опции моделирования, доступные в программном обеспечении ВИРИС:

• Глобальный теплообмен в камере реактора, включающий

◦ Резистивный нагрев и подбор мощности нагревателей под целевую температуру в любой точке камеры реактора

◦ Теплоперенос в твердом теле. Пользователь может задать теплопроводность материалов деталей конструкции реактора как функцию температуры

◦ Конвективный теплоперенос и лучистый теплообмен в газовой среде

◦ Лучистый теплообмен в полупрозрачных материалах камеры реактора. Модель теплопереноса в двух диапазонах длин волн используется для учета лучистого теплообмена в полупрозрачных твердых материалах, которые характеризуются пороговой длиной волны

• Массоперенос в камере реактора, включающий

◦ Массоперенос компонентов смеси, в котором коэффициенты теплопроводности и вязкости вычисляются на основе молекулярно-кинетической теории

◦ Диффузионный перенос реагирующих компонентов и вычисление бинарных коэффициентов диффузии на основе соотношения Стефана-Максвелла

◦ Объемная химия для описания взаимодействия газовых компонентов

◦ Поверхностная химия для описания адсорбции, десорбции и превращения газовых компонентов на поверхности твердого тела

Выходные данные из модели:

◦ Мгновенная скорость осаждения материалов

◦ Скорость формирования эпитаксиальных слоев Si и SiGe с учетом вращения подложки

◦ Толщина слоя оксидов, выращенных методом ALD, как функция времени

◦ Толщина слоя оксида кремния как функция времени

◦ Пространственное распределение скорости осаждения покрытий

Дополнительно:

• База данных свойств материалов
• Пошаговое руководство
• Поставочные примеры